华为研制出7纳米芯片 用什么光刻机

华为研制出7纳米芯片使用的光刻机很可能采用了最先进的极紫外光刻技术（EUV）。EUV光刻机利用极紫外波长的光源进行曝光，相比传统的193纳米深紫外光刻技术，EUV技术具有更高的分辨率和更好的精度，能够实现更小尺寸的芯片制造。华为作为全球领先的通信技术公司，投资于研发和提升半导体制造能力，很有可能引进了最新的EUV光刻机设备，以满足其7纳米芯片的制造需求。