是邻甲基苯磺酸和对甲基苯磺酸。前者为热力学控制,因为邻位电子云密度高于对位,所以前者热力学更稳定;后者为动力学控制,因为对位的空阻更小,磺酸基团更容易靠近。是邻甲基苯磺酸和对甲基苯磺酸。
前者为热力学控制,因为邻位电子云密度高于对位,所以前者热力学更稳定;后者为动力学控制,因为对位的空阻更小,磺酸基团更容易靠近。
是邻甲基苯磺酸和对甲基苯磺酸。前者为热力学控制,因为邻位电子云密度高于对位,所以前者热力学更稳定;后者为动力学控制,因为对位的空阻更小,磺酸基团更容易靠近。是邻甲基苯磺酸和对甲基苯磺酸。
前者为热力学控制,因为邻位电子云密度高于对位,所以前者热力学更稳定;后者为动力学控制,因为对位的空阻更小,磺酸基团更容易靠近。