光刻机有三大核心部件,EUV光源、双工件台、光学镜头。EUV光刻机零部件高达十万个,涉及面广,28纳米以下制程的EUV光刻机至少需要3至10的攻关突破。衡量指标就是数值孔径(NA),一般透镜数值孔径越大,收光能力越大、分辨率越高。因为EUV的镜头与上一代DUV光学系统完全不同,所以数值孔径大大降低。
光刻机有三大核心部件,EUV光源、双工件台、光学镜头。EUV光刻机零部件高达十万个,涉及面广,28纳米以下制程的EUV光刻机至少需要3至10的攻关突破。衡量指标就是数值孔径(NA),一般透镜数值孔径越大,收光能力越大、分辨率越高。因为EUV的镜头与上一代DUV光学系统完全不同,所以数值孔径大大降低。