光刻胶用途（光刻胶三大原材料）

      光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。

光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。

依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。

光刻胶被广泛应用于模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件以及封装等领域。