主要用途是用作光导纤维渗杂剂，半导体锗的原料。
四氯化锗化学式GeCl4，无色液体。熔点-49.5℃(α型)、-52℃(β型)，沸点84.0℃，相对密度1.844330，折光率1.464。遇水分解生成二氧化锗和氯化氢。溶于乙醇、乙醚，在液氨中生成Ge(NH)2，极易溶于稀盐酸，不溶于浓盐酸和浓硫酸，能与浓硝酸慢慢反应。
3. 光学涂层：由于四氟化锗具有一定的透明性和折射率调节能力，它被用于光学涂层的制备。在光学器件和光学镀膜中，四氟化锗可以用于调节材料的光学性质，例如折射率和透过率。
4. 实验室研究：四氟化锗在实验室中也被用作化学试剂和研究材料。它可以用于合成其他锗化合物，或作为一种锗源参与不同的化学反应。
需要注意的是，四氟化锗是一种有毒的化合物，处理时需要采取适当的安全措施。在使用或处理四氟化锗时，请遵循相关的安全操作规程。
