OTFC-1550镀膜真空机是一种用于薄膜镀覆的设备。其原理是通过在真空环境中,利用电子束或离子束轰击靶材,使靶材蒸发或溅射,然后沉积在基材上形成薄膜。该设备具有高真空度、高温度控制和精确的沉积控制等特点,可用于制备光学薄膜、导电薄膜和保护膜等。其工作原理简单高效,可广泛应用于光电子、半导体和光学等领域。
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OTFC-1550镀膜真空机是一种用于薄膜镀覆的设备。其原理是通过在真空环境中,利用电子束或离子束轰击靶材,使靶材蒸发或溅射,然后沉积在基材上形成薄膜。该设备具有高真空度、高温度控制和精确的沉积控制等特点,可用于制备光学薄膜、导电薄膜和保护膜等。其工作原理简单高效,可广泛应用于光电子、半导体和光学等领域。