目前，华为的光刻技术仍然存在挑战和难点。光刻技术是半导体制造过程中的重要环节，对芯片性能和产能有着重要影响。华为在自主研发光刻机方面取得了一定进展，但仍需要不断攻克技术难关，提高设备精度和稳定性，以满足高端芯片制造的需求。因此，华为的光刻技术问题仍需持续关注和解决。
华为光刻技术目前还未完全解决，但华为已经在积极探索和研发相关技术。光刻技术是半导体制造中的重要工艺之一，对芯片制造的精度和效率有着至关重要的影响。华为已经在自主研发光刻机，并且与国内外的合作伙伴进行技术交流和合作，不断提高技术水平和生产效率，以应对市场需求并保持竞争优势。
