1. 目前国内自研开光刻机已经达到了较高水平。
2. 这是因为国内在科技创新方面的投入不断增加，许多高校和研究机构都在开展相关研究，并取得了一定的成果。
同时，国内企业也在不断提升自身的研发能力，加大对开光刻机技术的研究和开发。
3. 目前国内自研开光刻机已经具备了较高的分辨率和精度，能够满足大部分微纳加工的需求。
同时，一些自研开光刻机还具备了多层次曝光、多种材料加工等功能，为微纳加工领域的研究和应用提供了更多可能性。
随着科技的不断进步和研究的深入，国内自研开光刻机的水平还将继续提高。
国内自研开光刻机已经取得了显著的进展。目前，国内开光刻机已经达到了国际先进水平，具备了高分辨率、高精度、高稳定性等特点。
国内自研开光刻机在芯片制造、光学器件制造等领域得到了广泛应用，为国内高科技产业的发展提供了重要支撑。同时，国内开光刻机的研发能力也在不断提升，正在向更高水平迈进，有望在未来取得更大突破，实现更多自主创新。
