pvd真空镀膜工艺流程（真空镀膜pvd的工艺流程）

（1）清洗工件：接通直流电源，氩气进行辉光放电为氩离子，氩离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出； 

        （2） 镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。 

        （3）镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件； 

        （4）镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。