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工业制硅方程式(工业制硅的工艺流程化学方程式)

工业制硅方程式(工业制硅的工艺流程化学方程式)

更新时间:2024-04-03 17:15:30

工业制硅方程式

一般情况下工业制硅的化学方程式有下面这几条:1、2C+SiO2==高温==2CO+Si(得到粗硅)。2、Si+2Cl2==SiCl4。3、2H2+SiCl4==高温==Si+4HCl(得到精硅)。工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石(SiO2含量大于99%)。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时,能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低(0.3%~0.8%),采用质量高的硅石(SiO2大于99%),可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。

应用领域:

1、高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素,形成p型硅半导体;掺入微量的第VA族元素,形成n型半导体。p型半导体和n型半导体结合在一起形成p-n结,就可做成太阳能电池,将辐射能转变为电能。

2、金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。将陶瓷和金属混合烧结,制成金属陶瓷复合材料,它耐高温,富韧性,可以切割,既继承了金属和陶瓷的各自的优点,又弥补了两者的先天缺陷。可应用于军事武器的制造。

第一种。

SiO2 + 2C = Si + 2CO↑

Si + 2Cl2 = SiCl4

SiCl4 + 2H2 = Si +HCl

条件都是高温

第二种.

将细砂粉(SIO2)与镁粉混和,制得粗硅。这种粗硅往往含有过量的镁氧化镁和硅化镁,可用盐酸除去。

SIO2+2MG=SI+2MGO(条件:高温) 2MG+SI=MG2SI (条件:高温)

mg+2hcl=mgcl2+h2 mgo+2hcl=mgcl2+h2o

mg2si+4hcl=2mgcl2+sih4

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