84消毒液的主要成分是次氯酸钠。
与次氧酸根的反应方程式是
少量与足量都是一个方程式:CLO-+CO2+H20=HCO3-+HC
lO
化学方程式:NaCLO+COZ+H20=NaHC03+HCLO
如果只考虑二氧化碳次氧酸很和水的反应，那么
只能生成碳酸气根，因为碳酸第一级电离常数(4.5
x10~-7)>次氧酸第一级电离常数(3x10-8)>
酸第二级电离常数(4.7X10~-11)。因此电离能力
碳酸>次氧酸>碳酸氢根。所以反应方程式为CO2+H20
+CLO-==(可逆)==HCO3-+HCLO。
次酸根和二氧化碳反应主成碳酸根,是因为钙离子(Ca2++C032--=(可逆)==CaC03)的存在，打破
了碳酸氢根离子的电离平衡(HCO3==(可进)==H+
+CO32-)，国此水浴液中碳酸气根离子浓度下降，平
衡向碳酸狠离子方向进行，因此产生碳酸根，但这
里的碳酸根是以碳酸盐沉控的形式存在，不具有原
来电离状态下碳酸根离子的性质，国此不能称
为“次氧酸根和二氧化碳反应主成碳酸根”
