浸没式光刻谁发明的

2004年，阿斯麦和台积电共同研发的浸没式光刻机诞生，由于是在成熟的193nm技术上改进的，设备稳定性和改造成本明显优于尼康同时推出的157nm干式刻蚀机。

阿斯麦的市场份额随之大幅提升，从原来的不到10%到2009年达到了70%，成为绝对的领先者。

尼康在此关键节点上的决策错误使其在短短几年时间内失去了行业领先的地位。