刻蚀工艺流程

1.1开启等离子刻蚀机电源开关、冷却水开关，开氧气（    02）和四氟化碳（CF4）

气瓶开关（两小格即可） 。

1.2打开射频电源预热 20 分钟。

1.3将扩散完、待加工的硅片整齐地叠在一起，在最上面、最下面的硅片上加同 规格的塑料薄片，用四氟片压好，盖上盖板，平衡拧紧螺丝， （控制好力度， 要压紧，但也不要太过用力，以免压碎硅片）放入离子刻蚀机反应室，对准 盖好上盖板。

1.4 打开机械泵，开主抽，开始抽真空，