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光刻机的基本原理

光刻机的基本原理

更新时间:2023-09-16 08:16:43

光刻机的基本原理

 光刻机的核心原理就是一个透镜组,在精度上首先咱们有个概念:我们现在芯片的线条精度已发展到10nm级别,而较大的原子直径是将近1nm,我们把芯片放在电子显微镜下即可清晰地数出每个线条上有几个原子,“调节屈光度”是典型的几何光学(初等光学)概念,远远实现不了这个精度。

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