光刻胶是半导体制造中的关键原材料，目前国内的光刻胶生产技术与国际先进水平相比还有一定差距，主要表现在以下几个方面：
技术落后：国内光刻胶生产技术相对落后，主要体现在生产设备和工艺水平较低，缺乏高端光刻胶生产技术和经验。
质量不稳定：国内光刻胶质量不稳定，尤其是高端光刻胶产品，往往存在着杂质、颗粒度等问题，影响了产品的性能和可靠性。
供应链不稳定：由于国内市场需求的不断增长，导致国内光刻胶供应不稳定，且受到国际贸易因素的影响。
成本高：光刻胶的价格较高，主要是由于生产成本和运输成本较高，而国内企业在这方面的投入较少，难以形成规模效应。
综上所述，国内光刻胶生产技术和质量水平与国际先进水平相比还有一定差距，这也是制约国产光刻胶发展的主要因素之一。
