任何时候都可以使用,开启全局光后,投影、浮雕效果、内阴影等存在方向性的图层样式,都会处于同一个光照方向,不利于进行自定义调整。
例如:绘制球体时,投影是朝右下方45°角,那么我想增加反光,就必须先关闭全局光,然后再添加一个朝左上方的内阴影样式。如果开启了全局光,内阴影也会朝向右下方,这就和预期效果不符了。
开启全局光,通常用于图层样式方向不冲突或简单图层样式,对于复杂的图层样式效果,最好关闭全局光
任何时候都可以使用,开启全局光后,投影、浮雕效果、内阴影等存在方向性的图层样式,都会处于同一个光照方向,不利于进行自定义调整。
例如:绘制球体时,投影是朝右下方45°角,那么我想增加反光,就必须先关闭全局光,然后再添加一个朝左上方的内阴影样式。如果开启了全局光,内阴影也会朝向右下方,这就和预期效果不符了。
开启全局光,通常用于图层样式方向不冲突或简单图层样式,对于复杂的图层样式效果,最好关闭全局光